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1、光譜干涉膜厚儀

這是利用光干涉的膜厚計。當光線進入待測物體時，會在薄膜的正面和背面發(fā)生反射。這兩個反射光之間存在相移，并且該相移的發(fā)生取決于薄膜的厚度。當波同相位重疊時，它們會相互增強，而當它們以相反相位重疊時，它們會相互減弱，因此可以通過測量這種干涉差來測量厚度。

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2、紅外膜厚儀

這是利用紅外線被測量對象物吸收的原理的膜厚計。當用紅外線照射待測物體時，根據(jù)待測物體的材料和厚度，特定波長的紅外線被吸收。該特性用于根據(jù)通過劃分透射光或反射光獲得的光譜來測量薄膜厚度。通過預(yù)先測量被測材料的吸收率與膜厚的關(guān)系，可以計算出被測材料的膜厚。

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3、電磁膜厚計

這是利用磁通密度變化的膜厚計。這是當測量目標形成在磁性金屬表面上時使用的測量方法，磁通量是利用密度變化這一事實的。但只有當被測物體與金屬接觸時才能使用，且被測物體不是金屬。

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4.渦流膜厚計

渦流膜厚計是利用線圈產(chǎn)生的磁通量的變化來測量物體厚度的方法。通電的線圈周圍會產(chǎn)生磁通，當線圈靠近被測量物時，磁通會根據(jù)被測量物的厚度而變化。通過檢測該磁通量的變化來測量被測物體的厚度。

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5、超聲波膜厚計

超聲波膜厚計是利用超聲波反射的膜厚計。當超聲波從被測物體的表面發(fā)射時，它會穿過物體的內(nèi)部并被背面反射?？梢愿鶕?jù)反射發(fā)生所需的時間來測量厚度。

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例如，當測量玻璃等透明薄膜的厚度時，使用使用寬帶光的光譜干涉膜厚計或使用紅外光的紅外膜厚計。另一方面，這些類型的膜厚計不能用于不透光的材料，例如金屬。

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測量金屬電鍍等薄膜時，使用利用磁通量變化的電磁式膜厚計和利用渦流的渦流式膜厚計。此外，如果難以觸摸被測物體，也可使用超聲波涂層測厚儀等非接觸式涂層測厚儀。